Ito-Glas für elektromagnetische Abschirmung und Touchscreens
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Leitfähiges beschichtetes ITO-Glas wird hergestellt, indem eine Schicht aus Siliziumdioxid (SiO2) und Indiumzinnoxid (allgemein bekannt als ITO) durch Magnetron-Sputtering-Technologie auf einem Glassubstrat unter vollständig vakuumierten Bedingungen verteilt wird, wodurch die beschichtete Oberfläche leitfähig wird. ITO ist eine Metallverbindung mit guter Transparenz und leitfähige Eigenschaften.
Technische Daten
| Dicke des ITO-Glases | 0,4 mm, 0,5 mm, 0,55 mm, 0,7 mm, 1 mm, 1,1 mm, 2 mm, 3 mm, 4 mm | ||||||||
| Widerstand | 3-5Ω | 7-10Ω | 12-18Ω | 20-30Ω | 30-50Ω | 50-80Ω | 60–120 Ω | 100–200 Ω | 200–500 Ω |
| Beschichtungsdicke | 2000–2200 Å | 1600–1700 Å | 1200–1300 Å | 650–750 Å | 350–450 Å | 200–300 Å | 150–250 Å | 100–150 Å | 30–100 Å |
| Glasbeständigkeit | |||
| Widerstandstyp | geringer Widerstand | normaler Widerstand | Hohe Resistenz |
| Definition | <60Ω | 60–150 Ω | 150–500 Ω |
| Anwendung | Hochbeständiges Glas wird im Allgemeinen zum elektrostatischen Schutz und zur Herstellung von Touchscreens verwendet | Gewöhnliches Widerstandsglas wird im Allgemeinen für TN-Flüssigkristallanzeigen und elektronische Entstörungssysteme (EMI-Abschirmung) verwendet. | Glas mit niedrigem Widerstand wird im Allgemeinen in STN-Flüssigkristallanzeigen und transparenten Leiterplatten verwendet |
| Funktionstest und Zuverlässigkeitstest | |
| Toleranz | ±0,2 mm |
| Verzug | Dicke<0,55 mm, Verzug ≤ 0,15 % Dicke>0,7 mm, Verzug ≤ 0,15 % |
| ZT vertikal | ≤1° |
| Härte | >7H |
| Beschichtungs-Abriebtest | 0000#Stahlwolle mit 1000gf,6000 Zyklen, 40 Zyklen/Min |
| Korrosionsschutztest (Salzsprühtest) | NaCL-Konzentration 5 %:Temperatur: 35°CExperimentierzeit: 5 Minuten Widerstandsänderung ≤ 10 % |
| Feuchtigkeitsbeständigkeitstest | 60℃,90 % relative Luftfeuchtigkeit,48 Stunden Widerstandsänderung ≤ 10 % |
| Säurebeständigkeitstest | HCL-Konzentration: 6 %, Temperatur: 35 °CExperimentierzeit: 5 Minuten Widerstandsänderung ≤ 10 % |
| Alkalibeständigkeitstest | NaOH-Konzentration: 10 %, Temperatur: 60 °CExperimentierzeit: 5 Minuten Widerstandsänderung ≤ 10 % |
| Thermische Stabilität | Temperatur: 300 °CAufheizzeit: 30 Min. Widerstandsänderung ≤ 300 % |
wird bearbeitet
Si02-Schicht:
(1) Die Rolle der SiO2-Schicht:
Der Hauptzweck besteht darin, zu verhindern, dass die Metallionen im Natron-Kalzium-Substrat in die ITO-Schicht diffundieren.Es beeinflusst die Leitfähigkeit der ITO-Schicht.
(2) Filmdicke der SiO2-Schicht:
Die Standardfilmdicke beträgt im Allgemeinen 250 ± 50 Å
(3) Weitere Komponenten in der SiO2-Schicht:
Um die Durchlässigkeit von ITO-Glas zu verbessern, wird SiO2 üblicherweise mit einem bestimmten Anteil SiN4 dotiert.
| GLASBESTÄNDIGKEIT | ||||||
| TYP | geringer Widerstand | normaler Widerstand | Hohe Resistenz | |||
| Definition | <60Ω | 60–150 Ω | 150–500 Ω | |||
| Anwendung | Hochbeständiges Glas wird im Allgemeinen zum elektrostatischen Schutz und zur Herstellung von Touchscreens verwendet | Gewöhnliches Widerstandsglas wird im Allgemeinen für TN-Flüssigkristallanzeigen und elektronische Entstörungssysteme (EMI-Abschirmung) verwendet. | Glas mit niedrigem Widerstand wird im Allgemeinen in STN-Flüssigkristallanzeigen und transparenten Leiterplatten verwendet | |||
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