Скло Ito для захисту від випромінювання та сенсорних екранів
Фото продуктів
Скло з електропровідним покриттям ITO виготовляється шляхом нанесення шару діоксиду кремнію (SiO2) та оксиду індію олова (широко відомого як ITO) за технологією магнетронного розпилення на скляну підкладку в повністю вакуумованому стані, що робить поверхню з покриттям електропровідною. ITO є металевою сполукою з хорошою прозорістю та провідні властивості.
Технічні дані
| Товщина скла ITO | 0,4 мм, 0,5 мм, 0,55 мм, 0,7 мм, 1 мм, 1,1 мм, 2 мм, 3 мм, 4 мм | ||||||||
| опір | 3-5 Ом | 7-10 Ом | 12-18 Ом | 20-30 Ом | 30-50 Ом | 50-80 Ом | 60-120 Ом | 100-200 Ом | 200-500 Ом |
| товщина покриття | 2000-2200Å | 1600-1700Å | 1200-1300Å | 650-750Å | 350-450Å | 200-300Å | 150-250Å | 100-150Å | 30-100Å |
| Стійкість скла | |||
| Тип опору | низький опір | нормальний опір | висока стійкість |
| Визначення | <60 Ом | 60-150 Ом | 150-500 Ом |
| застосування | Високоміцне скло зазвичай використовується для електростатичного захисту та виробництва сенсорних екранів | Звичайне стійке скло зазвичай використовується для рідкокристалічного дисплея типу TN та електронного захисту від перешкод (екранування EMI) | Скло з низьким опором зазвичай використовується в рідкокристалічних дисплеях STN і прозорих платах |
| Функціональний тест і тест на надійність | |
| Толерантність | ±0,2 мм |
| Деформація | товщина<0,55 мм, короблення≤0,15% товщини>0,7 мм, викривлення≤0,15% |
| ZT вертикальний | ≤1° |
| Твердість | >7 год |
| Випробування на стирання покриття | 0000#сталева вата з 1000gf,6000 циклів, 40 циклів/хв |
| Антикорозійний тест (випробування сольовим спреєм) | Концентрація NaCL 5%:Температура: 35°CЧас експерименту: 5 хв зміна опору≤10% |
| Тест на вологостійкість | 60℃,90% відносної вологості,48 годин стійкість зміни≤10% |
| Тест на кислотостійкість | Концентрація HCL: 6%, Температура: 35°CЧас експерименту: 5 хв зміна опору≤10% |
| Тест на лугостійкість | Концентрація NaOH: 10%, температура: 60°CЧас експерименту: 5 хв зміна опору≤10% |
| Термостабільність | Температура: 300°Cчас нагрівання: зміна опору 30 хв≤300% |
Обробка
Шар Si02:
(1) Роль шару SiO2:
Основна мета полягає в тому, щоб запобігти дифузії іонів металу в содо-кальцієвій підкладці в шар ITO.Це впливає на провідність шару ITO.
(2) Товщина плівки шару SiO2:
Стандартна товщина плівки зазвичай становить 250 ± 50 Å
(3) Інші компоненти шару SiO2:
Зазвичай, щоб покращити світлопроникність скла ITO, певна частка SiN4 додається до SiO2.
| СТІЙКІСТЬ СКЛА | ||||||
| ТИП | низький опір | нормальний опір | висока стійкість | |||
| Визначення | <60 Ом | 60-150 Ом | 150-500 Ом | |||
| застосування | Високоміцне скло зазвичай використовується для електростатичного захисту та виробництва сенсорних екранів | Звичайне стійке скло зазвичай використовується для рідкокристалічного дисплея типу TN та електронного захисту від перешкод (екранування EMI) | Скло з низьким опором зазвичай використовується в рідкокристалічних дисплеях STN і прозорих платах | |||
Пов'язане застосування
Скло Ito For Military Emi Shielding Display
Скло з покриттям Ito для сенсорної панелі HMI
Загартоване провідне скло Ito для ваги










